如何(he)解決(jue)ICP光譜(pu)儀(yi)的光譜(pu)幹擾問(wen)題(ti)

    光譜(pu)幹擾在(zai)ICP光譜(pu)儀(yi)分析中占有最(zui)重要的地(di)位(wei)，在壹(yi)般的(de)光譜(pu)儀(yi)工(gong)作(zuo)的(de)波長(chang)範圍(wei)內約有數(shu)十(shi)萬(wan)條光譜(pu)線，經常會(hui)出(chu)現不(bu)同(tong)程度的(de)譜線重疊幹擾。此外(wai)，ICP光譜(pu)儀(yi)光源(yuan)還發射連(lian)續(xu)光譜(pu)背景(jing)以(yi)及某些(xie)分子光譜(pu)帶(dai)，建(jian)立(li)分析方(fang)法(fa)時(shi)在(zai)選擇(ze)分析線和(he)校正光譜(pu)幹擾往(wang)往(wang)要(yao)花費(fei)很多(duo)工(gong)作(zuo)量。為了(le)獲得準確(que)可(ke)靠(kao)的數據(ju)，必須重視ICP光譜(pu)儀(yi)的光譜(pu)幹擾問(wen)題(ti)。在(zai)ICP光譜(pu)儀(yi)分析中，有以(yi)下(xia)幾(ji)種類型(xing)的光譜(pu)幹擾不(bu)能(neng)忽視：

　　(1)譜(pu)線變寬引(yin)起的(de)光譜(pu)幹擾

　　在(zai)ICP光源(yuan)中，引(yin)起譜(pu)線變寬的(de)外(wai)界因(yin)素(su)主(zhu)要有：

　　①多(duo)普(pu)勒變寬(又(you)稱(cheng)熱(re)變寬)是(shi)由原子無規則(ze)運動造成的。

　　②碰(peng)撞(zhuang)變寬

　　原子或離子與(yu)中性粒(li)子或帶電(dian)粒子(zi)碰撞引(yin)起變寬。在(zai)ICP光譜(pu)儀(yi)分析中中有三(san)種：

　　a共振變寬：同(tong)種原子相(xiang)互碰撞引(yin)起的(de)譜線變寬。b範(fan)德(de)華交寬：痕(hen)量元(yuan)素(su)的(de)粒(li)子與氬(ya)的(de)中性原子碰(peng)撞引(yin)起的(de)譜線變寬。c斯托(tuo)克變寬；在(zai)電(dian)場作(zuo)用下(xia)，帶電(dian)粒子(zi)碰撞引(yin)起的(de)譜帶變寬。

　　(2)復合(he)輻(fu)射(she)引(yin)起的(de)光譜(pu)幹擾．復合(he)輻(fu)射(she)是(shi)電(dian)子被(bei)離子(zi)俘(fu)獲過程中，以(yi)輻(fu)射形式釋放能(neng)量產生的連(lian)續(xu)光譜(pu)，它(ta)的強(qiang)度隨(sui)著(zhe)電(dian)子密(mi)度的(de)升高(gao)而(er)急劇增加(jia)。氬等離子體(ti)中電(dian)子密(mi)度較(jiao)大(da)，故要考(kao)慮這(zhe)種背景(jing)的(de)影響，特別是(shi)對(dui)痕(hen)量元(yuan)素(su)的(de)分析。

　　(3)基(ji)體元(yuan)素(su)的(de)強(qiang)烈(lie)發射造(zao)成的散(san)射(she)光引(yin)起的(de)光譜(pu)幹擾。最(zui)典型(xing)的是靈敏度較(jiao)高的(de)堿土金(jin)屬(shu)Ca、Mg在(zai)高濃度時(shi)由於強(qiang)烈(lie)發射造(zao)成的散(san)射(she)效應(ying)對(dui)鄰(lin)近(jin)譜(pu)線的影響，散射(she)光使(shi)背景(jing)加(jia)深，從而降低了信(xin)噪比(bi)。

　　(4)分子光譜(pu)的(de)幹擾。主(zhu)要是分子的(de)吸收幹擾，即在(zai)原子化過(guo)程中生(sheng)成的氣(qi)體(ti)分子氧(yang)化物(wu)及鹽類分子對(dui)輻(fu)射(she)吸收而引(yin)起的(de)幹擾。以(yi)前(qian)有不(bu)少文獻對(dui)以(yi)酸根離(li)子溶(rong)液(ye)作(zuo)介(jie)質(zhi)對(dui)某種元(yuan)素(su)的(de)分子吸收幹擾作(zuo)了(le)研究，但(dan)很(hen)少有人(ren)系統地(di)研究對(dui)重金(jin)屬(shu)的(de)分子吸收幹擾。而(er)我們在實(shi)際工(gong)作(zuo)中很(hen)有必要了(le)解這壹幹擾。常見的有分子光譜(pu)對(dui)200nm以(yi)下(xia)的分折線的幹擾，OH分子在(zai)281.0～294.5 nm和(he)306.4-324.5的區域發射的(de)分子光譜(pu)對(dui)分析線的幹擾。