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ICP光譜(pu)儀(yi)定量(liang)測(ce)量(liang)的(de)內(nei)容(rong)講解(jie)
更新時(shi)間(jian)：2022-11-26 點擊量(liang)：2908
ICP光譜(pu)儀(yi)可分(fen)析(xi)元(yuan)素(su)周期表中的(de)大部分(fen)元(yuan)素(su)，適(shi)用(yong)於(yu)各(ge)種樣(yang)品(pin)中元(yuan)素(su)含(han)量(liang)的(de)分(fen)析(xi)。廣泛(fan)用於材(cai)料(liao)、環境、地質、石化、生物(wu)等(deng)領域。
ICP光譜(pu)儀(yi)是多元(yuan)素(su)順(shun)序測(ce)量(liang)的(de)分(fen)析(xi)測試(shi)儀(yi)器。 該(gai)儀(yi)器由(you)掃(sao)描分(fen)光器、射頻發(fa)生器、試(shi)樣(yang)引(yin)入系(xi)統(tong)、光電轉(zhuan)換(huan)、控(kong)制(zhi)系(xi)統(tong)、數據(ju)處(chu)理系(xi)統(tong)、分(fen)析(xi)操作(zuo)軟件(jian)組成(cheng)。等(deng)離(li)子(zi)體(ti)是在三重(zhong)同心石英炬管(guan)中產(chan)生。炬管內分(fen)別(bie)以(yi)切向(xiang)通(tong)入氬氣，炬(ju)管(guan)上(shang)部繞(rao)有(you)紫(zi)銅負載線圈(quan)<內(nei)通冷(leng)卻水(shui)>當(dang)高(gao)頻(pin)發生器產(chan)生的(de)高(gao)頻(pin)電流(liu)（工作(zuo)頻(pin)率40MHz功率1.2KW左(zuo)右(you)）通過(guo)線圈(quan)時(shi)，其(qi)周圍(wei)產(chan)生交變磁(ci)場，使少(shao)量(liang)氬氣電離(li)產(chan)生電子(zi)和離(li)子(zi)，在磁場作(zuo)用(yong)下加(jia)速(su)運(yun)動與(yu)其(qi)它(ta)中性原子(zi)碰(peng)撞(zhuang)，產(chan)生更多的(de)電子(zi)和離(li)子(zi)，在炬管(guan)內(nei)形(xing)成渦(wo)流(liu)，在電火(huo)花(hua)作(zuo)用(yong)下形(xing)成(cheng)等(deng)離(li)子(zi)炬(ju)（即等(deng)離(li)子(zi)體(ti)），這(zhe)種(zhong)等(deng)離(li)子(zi)體(ti)溫(wen)度可達(da)10000K以(yi)上(shang)。待測(ce)水(shui)溶(rong)液經噴(pen)霧器(qi)形(xing)成氣溶(rong)膠進入石英(ying)炬管(guan)中心通道。原(yuan)子(zi)在受到(dao)外(wai)界(jie)能量(liang)的(de)作(zuo)用(yong)下電離(li)，但(dan)處於(yu)激發態的(de)原(yuan)子(zi)十分(fen)不穩(wen)定，從(cong)較高(gao)能(neng)級躍遷到(dao)基(ji)態時(shi)，將釋(shi)放出(chu)巨能量(liang)，這(zhe)種(zhong)能量(liang)是以(yi)壹定波(bo)長的(de)電磁(ci)波(bo)的(de)形(xing)式(shi)輻射出去。不同(tong)元(yuan)素(su)產(chan)生不同(tong)的(de)特(te)征(zheng)光譜(pu)。這(zhe)些特征(zheng)光譜(pu)通過(guo)透鏡射到分(fen)光器中的(de)光柵(zha)上，計(ji)算通(tong)過(guo)控(kong)制(zhi)步(bu)進電機(ji)轉(zhuan)動光柵(zha),傳動機構將分(fen)光後的(de)待(dai)測(ce)元(yuan)素(su)特(te)征(zheng)譜(pu)線光強準確定位(wei)於(yu)出(chu)口(kou)狹縫(feng)處(chu)，光電倍(bei)增(zeng)管將該(gai)譜(pu)線光強轉(zhuan)變為(wei)電流(liu)，再經電路(lu)處(chu)理和V/F轉(zhuan)換(huan)後，由(you)計(ji)算機(ji)進(jin)行數據(ju)處(chu)理，後由(you)打(da)印機打(da)出(chu)分(fen)析(xi)結(jie)果。
ICP光譜(pu)儀(yi)具采(cai)用等(deng)離(li)子(zi)光學接口(kou)完成(cheng)消除(chu)水(shui)平觀(guan)測時(shi)尾(wei)焰(yan)的(de)影(ying)響(xiang)、全譜(pu)CCD技(ji)術和多視角(jiao)等(deng)離(li)子(zi)體(ti)定位(wei)等(deng)新技(ji)術，有(you)高(gao)靈(ling)敏(min)度、高(gao)精度以(yi)及(ji)波(bo)長範(fan)圍(wei)寬等(deng)特性，可分(fen)析(xi)包(bao)括(kuo)ppm級(ji)鹵素(su)在內的(de)73個(ge)金(jin)屬和非金(jin)屬元(yuan)素(su)。
ICP光譜(pu)儀(yi)的(de)定量(liang)測(ce)量(liang)
在做定量(liang)測(ce)量(liang)前，須(xu)先(xian)做分(fen)析(xi)線的(de)定義。在Method的(de)Line Definition窗口(kou)中，點擊Method/Analysis/Single Measurements測量(liang)壹個(ge)高(gao)濃(nong)度(du)的(de)標樣(yang)後，確定分(fen)析(xi)線的(de)峰(feng)高(gao)、背(bei)景、積(ji)分(fen)範(fan)圍(wei)等(deng)相關(guan)定量(liang)參(can)數。或(huo)調(tiao)入已保(bao)存的(de)光譜(pu)圖定義以(yi)上(shang)參數(shu)。
然(ran)後點擊工作(zuo)站(zhan)左(zuo)邊工具箱中的(de)Analysis按(an)鈕(niu)進(jin)入分(fen)析(xi)測量(liang)窗口(kou)。如果是用自動進樣(yang)器(qi)進(jin)樣(yang)，在自動進樣(yang)器(qi)窗口(kou)中點擊F5，按自動進樣(yang)器(qi)的(de)編(bian)輯方法(fa)進樣(yang)。若(ruo)要(yao)停(ting)止(zhi)進樣(yang)，點擊Esc。以(yi)上(shang)操作(zuo)可(ke)點擊工具欄上(shang)相應(ying)的(de)快(kuai)捷鍵(jian)。以(yi)下是手(shou)動進樣(yang)的(de)操(cao)作(zuo)過(guo)程說明(ming)。
把吸(xi)樣(yang)管(guan)放(fang)入要(yao)測的(de)標樣(yang)中，點擊Analysis/Method Measurements，選擇(ze)要(yao)測的(de)標樣(yang)名(ming)，點擊Measure，測量(liang)完(wan)成後，點擊Analysis/Sample Finish。然(ran)後按(an)順(shun)序測(ce)完標準系(xi)列(lie)，再點擊Calculate，回到Method窗口(kou)，得到(dao)工作(zuo)曲(qu)線。如(ru)果不能(neng)得(de)到工作(zuo)曲(qu)線，是由於軟件(jian)計(ji)算出(chu)的(de)工作(zuo)曲(qu)線的(de)相關(guan)系(xi)數(shu)小於設(she)定值(zhi)。
把(ba)吸樣(yang)管(guan)放(fang)入要(yao)測的(de)樣(yang)品(pin)中，若(ruo)測量(liang)壹次點擊Analysis/Single Measurements，若(ruo)測量(liang)多次點擊Analysis/Multiple Measurements，測量(liang)完(wan)成後，點擊Analysis/Sample Finish。
