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單(dan)道(dao)掃(sao)描(miao)光(guang)譜儀(yi)

簡要(yao)描述(shu)：ICP單道(dao)掃(sao)描(miao)光(guang)譜儀(yi)特(te)點：1、射(she)頻發(fa)生(sheng)器(qi)的(de)高(gao)壓(ya)供(gong)電(dian)回(hui)路，采(cai)用(yong)的(de)電(dian)子(zi)技(ji)術(shu)，淘汰(tai)了笨重的(de)升(sheng)壓(ya)變(bian)壓(ya)器(qi)和(he)高(gao)頻阻流(liu)圈，采(cai)用(yong)功(gong)率閉(bi)環反(fan)饋技(ji)術(shu)，控制(zhi)精(jing)度於(yu)0.1% 2、全(quan)自動點(dian)火 氣(qi)路(lu)智能控制(zhi)，實現(xian)軟(ruan)件(jian)點火，更方便(bian)3.安(an)全(quan)冷卻(que)水(shui)保護(hu)、氬氣保護(hu)、過壓(ya)、過流(liu)、滅(mie)弧保護(hu)更安全(quan)4.輸(shu)出功(gong)率自(zi)動匹(pi)配(pei)調(tiao)諧(xie)，功(gong)率參數軟(ruan)件程(cheng)序設定5.分(fen)光(guang)器(qi)內(nei)充(chong)氬氣，使(shi)波(bo)長在180nm的(de)硫和(he)189nm的(de)Sn得到(dao)很(hen)靈(ling)敏的(de)效果

• 產(chan)品(pin)型號：
• 廠商(shang)性(xing)質：生產廠家(jia)
• 更新時間(jian)：2025-10-27
• 訪  問  量(liang)：3397

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ICP單道(dao)掃(sao)描(miao)光(guang)譜儀(yi)組(zu)成(cheng)及(ji)工(gong)作(zuo)原(yuan)理

    ICP光(guang)譜儀(yi)是多元素順序測量(liang)的(de)分析測(ce)試儀(yi)器(qi)。 該儀(yi)器(qi)由掃(sao)描(miao)分(fen)光(guang)器(qi)、射頻發(fa)生(sheng)器(qi)、試樣引入(ru)系(xi)統(tong)、光(guang)電(dian)轉換(huan)、控制(zhi)系統(tong)、數(shu)據(ju)處(chu)理系統(tong)、分(fen)析(xi)操(cao)作軟件組成(cheng)。等離(li)子(zi)體(ti)是在三重同心(xin)石(shi)英炬(ju)管中(zhong)產(chan)生(sheng)。炬(ju)管內(nei)分別以切(qie)向(xiang)通入(ru)氬氣，炬(ju)管上(shang)部(bu)繞有(you)紫(zi)銅負(fu)載線(xian)圈<內(nei)通冷卻(que)水(shui)>當高(gao)頻發(fa)生(sheng)器(qi)產生(sheng)的(de)高(gao)頻電(dian)流(liu)（工(gong)作頻率40MHz功(gong)率1.2KW左(zuo)右）通(tong)過(guo)線圈時，其周圍(wei)產(chan)生(sheng)交(jiao)變(bian)磁場(chang)，使少(shao)量(liang)氬氣電(dian)離(li)產生電(dian)子(zi)和(he)離子(zi)，在(zai)磁場(chang)作用(yong)下(xia)加(jia)速(su)運動與(yu)其它中性(xing)原(yuan)子(zi)碰撞，產生(sheng)更多的(de)電(dian)子(zi)和(he)離子(zi)，在(zai)炬(ju)管內(nei)形成渦流(liu)，在(zai)電(dian)火花(hua)作(zuo)用(yong)下(xia)形(xing)成(cheng)等(deng)離子(zi)炬(ju)（即等離(li)子(zi)體(ti)），這種(zhong)等離(li)子(zi)體(ti)溫度可(ke)達10000K以(yi)上(shang)。待(dai)測(ce)水(shui)溶液(ye)經(jing)噴(pen)霧器(qi)形成(cheng)氣溶膠(jiao)進(jin)入(ru)石(shi)英炬(ju)管中(zhong)心(xin)通(tong)道(dao)。原(yuan)子(zi)在(zai)受到(dao)外界(jie)能量(liang)的(de)作用(yong)下(xia)電(dian)離(li)，但處於(yu)激(ji)發(fa)態(tai)的(de)原(yuan)子(zi)十分不(bu)穩(wen)定，從(cong)較(jiao)高(gao)能級躍遷到(dao)基態(tai)時(shi)，將釋(shi)放出巨能量(liang)，這種(zhong)能量(liang)是以壹定波(bo)長的(de)電(dian)磁波的(de)形式輻(fu)射(she)出去。不同元素產生不同的(de)特征光(guang)譜。這些(xie)特(te)征(zheng)光(guang)譜通(tong)過(guo)透鏡(jing)射到(dao)分光(guang)器(qi)中的(de)光(guang)柵(zha)上(shang)，計(ji)算通(tong)過控制(zhi)步進(jin)電(dian)機(ji)轉動光(guang)柵(zha),傳(chuan)動機(ji)構(gou)將分(fen)光(guang)後(hou)的(de)待(dai)測(ce)元素特征譜線(xian)光(guang)強準(zhun)確定位(wei)於出口狹縫(feng)處(chu)，光(guang)電(dian)倍增管(guan)將該譜線(xian)光(guang)強轉變(bian)為(wei)電(dian)流(liu)，再(zai)經(jing)電(dian)路(lu)處理和(he)V/F轉換(huan)後(hou)，由計(ji)算機(ji)進(jin)行(xing)數據(ju)處理，zui後(hou)由打(da)印(yin)機(ji)打出分析結果(guo)。

二、ICP單道(dao)掃(sao)描(miao)光(guang)譜儀(yi)技(ji)術(shu)指標(biao)

1.射(she)頻發(fa)生(sheng)器(qi)（RF）

(1) 電(dian)路(lu)類(lei)型：自(zi)激(ji)振蕩電(dian)路(lu)，全(quan)自動點(dian)火，所(suo)有(you)功(gong)能實(shi)現(xian)電(dian)腦(nao)軟件控制(zhi)(點(dian)火、熄(xi)火、功(gong)率等(deng)參數設置(zhi))；實(shi)時(shi)功(gong)率控制(zhi)；自動匹(pi)配(pei)調(tiao)諧(xie)；光(guang)室(shi)恒(heng)溫；

(2) 工(gong)作(zuo)頻率：40.68MHZ±0.05% 

(3) 頻率穩(wen)定性(xing)：<0.1% 

(4) 輸(shu)出功(gong)率：700－1600w 

(5) 輸(shu)出功(gong)率穩(wen)定性(xing)：≤0.3% 

(6) 電(dian)磁場(chang)泄漏(lou)輻射(she)強度：距機身(shen)300mm 電(dian)場(chang)強度E:<2V/m

2.進(jin)樣裝置:

(1) 輸(shu)出工作線圈內(nei)徑25mm，3匝(za) 

(2) 炬(ju)管：外徑20mm的(de)石英炬(ju)管 

(3) 同(tong)軸(zhou)型噴(pen)霧器(qi)外徑6mm 

(4) 雙(shuang)筒形(xing)霧室(shi)外徑35mm 

(5) 氬氣流(liu)量(liang)計規(gui)格和(he)載氣(qi)壓(ya)力(li)表(biao)規(gui)格(ge)： 

  ①、 等(deng)離(li)子(zi)體(ti)流(liu)量(liang)計（100-1000）L/h ；(1.6-16L/min) 

  ②、 輔(fu)助(zhu)氣(qi)流(liu)量(liang)計（6-60）L/h ；(0.1-1L/min) 

  ③、 載氣(qi)流(liu)量(liang)計（6-60）L/h ；(0.1-1L/min) 

  ④、 載氣(qi)穩(wen)壓(ya)閥(fa)（0-0.4MPa）

        儀(yi)器(qi)內(nei)設氬氣二次(ci)穩(wen)壓(ya)閥(fa)（0.3MPa）

3.測(ce)光(guang)裝置:

  (1) 光(guang)電(dian)倍增管(guan)規(gui)格(ge)： R212UH 

  (2) 光(guang)電(dian)倍增管(guan)負(fu)高(gao)壓(ya)：200-1000V ，穩(wen)定性(xing)<0.05% 

  (3) 光(guang)電(dian)倍增管(guan)電(dian)流(liu)測(ce)量(liang)範(fan)圍(wei)：10-12 -10-4A 

  (4) 信(xin)號采(cai)集(ji)為(wei)V/F交(jiao)換(huan)：1mV對(dui)應100Hz

4.分(fen)光(guang)器(qi):
    (1) 光(guang)路: Czerny-Turner
    (2) 焦距: 1000mm 
    (3) 光(guang)柵(zha)規格(ge)：離(li)子(zi)刻蝕全(quan)息光(guang)柵(zha)，刻線密(mi)度3600線(xian)/mm，

        刻線面(mian)積(ji): 80×110mm，線(xian)色(se)散率倒數：0.26nm 
   (4) 波(bo)長範(fan)圍(wei)：190-500nm  
   (5) 分(fen)辨(bian)率: ≤0.008nm 
   (6) 掃(sao)描(miao)波(bo)長範(fan)圍(wei)3600線(xian)/mm 掃(sao)描(miao)波(bo)長範(fan)圍(wei)：190-500nm
   (7) 步進(jin)電(dian)機(ji)驅動zui步距：0.0006nm 
   (8) 入(ru)射(she)狹(xia)縫(feng)：20µm   出射狹縫(feng)：25µm
   (9) 發(fa)射(she)鏡(jing)規格(ge)：（78 × 105 × 16）mm 
   (10) 透鏡(jing)ф30，1：1成(cheng)像

5.應用(yong)行(xing)業分類(lei)

  1、金(jin)屬(shu)類(lei)

     鋼(gang)鐵(tie)：包括(kuo)碳素鋼、鑄鐵、合金(jin)鋼(gang)、高(gao)純(chun)鐵(tie)、鐵合金(jin)、矽(gui)鐵(tie)、錳鐵、釩(fan)鐵(tie)、鐵(tie)     礦        石，鉛的(de)冶煉等。

  2、有(you)色(se)金(jin)屬(shu)分(fen)析：

    純(chun)銅(tong)，純(chun)鋁和(he)合金(jin)中(zhong)的(de)雜質元(yuan)素分析。

    貴(gui)金(jin)屬(shu)的(de)純(chun)度分(fen)析(xi)：Au、Ag、Pt、Pd、Ir、Rh、Os、Ru。

  3、環境(jing)檢測(ce)類(lei)

    水(shui)質分(fen)析(xi)：礦泉水(shui)、自來水(shui)、河水(shui)、海水(shui)、汙水(shui)、廢水(shui)等。

    食(shi)品(pin)分析(xi)：包括(kuo)食品(pin)、飲料(liao)等。

    土壤成份(fen)分(fen)析(xi)：生(sheng)物和(he)植物(wu)樣品(pin)的(de)分析。

  4、稀(xi)土材料(liao)和(he)稀土永磁類(lei)

     稀(xi)土元素全(quan)分離(li)，此(ci)儀器(qi)高(gao)分(fen)辨(bian)率非常適合稀(xi)土元素的(de)分析。

     稀(xi)土永磁材料(liao)中對(dui)釹(nv)鐵(tie)硼材料(liao)的(de)配(pei)分(fen)和(he)成份(fen)的(de)分析。

  5、地質礦物的(de)分析

     精(jing)選礦的(de)分析

     普查(zha)找礦分析

  6、食(shi)品(pin)醫藥(yao)分(fen)析

     食(shi)品(pin)中有(you)益(yi)、有(you)害(hai)元素的(de)分析、藥(yao)材(cai)中的(de)微量(liang)元素分析

三、整(zheng)機(ji)技(ji)術(shu)指標(biao)：

     1.測(ce)量(liang)波長範(fan)圍(wei)：

        180-500nm    3600L/mm光(guang)柵(zha)

        180-800nm    2400 L/mm光(guang)柵(zha)

     2.測(ce)量(liang)精(jing)度（重(zhong)復(fu)性）：平(ping)均相對(dui)標(biao)準(zhun)偏(pian)差(cha)RSD≤1%

     3.測(ce)量(liang)穩(wen)定性(xing)：平(ping)均(jun)相對(dui)標(biao)準(zhun)偏(pian)差(cha)RSD≤2

     4.檢(jian)出下限：亞(ya)PPb級

四(si)、安(an)裝條(tiao)件

    1、儀(yi)器(qi)正常(chang)工作(zuo)條(tiao)件：實(shi)驗(yan)室(shi)內(nei)清(qing)潔、幹燥、無灰(hui)塵(chen)、無振動。室(shi)溫保持          為(wei)22℃±3℃

    2、房間：15平(ping)米左(zuo)右為(wei)宜，配(pei)有(you)標(biao)準(zhun)溶液(ye)試劑(ji)櫃(gui)，電(dian)腦(nao)桌、電(dian)腦(nao)椅，空調1.5—2匹(pi)。

    3、電(dian)源(yuan)：220V，22A，使(shi)用(yong)4平(ping)方(fang)的(de)電(dian)線(xian)。

    4、接(jie)地：為(wei)了(le)安全(quan)和(he)儀器(qi)的(de)穩(wen)定，必(bi)須(xu)有(you)高(gao)頻接地，用(yong)300×300×3mm的(de)紫銅板埋於地          下1.5米深(shen)處(chu)，用(yong)寬(kuan)30×0.5mm的(de)紫銅帶(dai)接到(dao)主機(ji)的(de)機殼上(shang)。

    5、排(pai)風(feng)：要(yao)求在(zai)主機(ji)上(shang)方(fang)安(an)裝排風(feng)筒，外接(jie)煙(yan)囪並(bing)用(yong)排(pai)風(feng)扇(shan)將ICP燃燒(shao)後(hou)的(de)廢氣(qi)排(pai)到(dao)室(shi)          外。

    6、氬氣：可(ke)使用(yong)普通(tong)氬氣99.99%即可(ke)

五(wu)、保修：

         北(bei)京中(zhong)曄儀(yi)元(yuan)科(ke)技(ji)有(you)限(xian)將提(ti)供(gong)12個(ge)月的(de)保修期(qi), 自(zi)簽字(zi)驗(yan)收(shou)之日(ri)起(qi)計(ji)算，但不超      過發(fa)貨(huo)之(zhi)日(ri)起(qi)15個(ge)月. 在(zai)保修期(qi)期(qi)內(nei)，北京中(zhong)曄儀(yi)元(yuan)科(ke)技(ji)有(you)限(xian)免費維修，由於(yu)非甲方      人(ren)為(wei)因(yin)素造成(cheng)儀(yi)器(qi)故(gu)障及(ji)損(sun)壞(huai)，即由乙(yi)方(fang)免費負責(ze)解決(jue)(消(xiao)耗(hao)品(pin)除外)；

  六(liu)、售(shou)後(hou)服務(wu)：

        在(zai)收(shou)到(dao)用(yong)戶(hu)的(de)要(yao)求維(wei)修書(shu)面(mian)通(tong)知(zhi)的(de)3時(shi)內(nei)，北京中(zhong)曄儀(yi)元(yuan)科(ke)技(ji)有(you)限(xian)的(de)技(ji)術(shu)人(ren)員做     出響應如(ru)果(guo)需要(yao)趕(gan)赴(fu)用(yong)戶(hu)工(gong)作(zuo)現(xian)場(chang)，技(ji)術(shu)人(ren)員將在(zai)收(shou)到(dao)書面(mian)通(tong)知(zhi)的(de)2個(ge)工(gong)作日內(nei)到(dao)達用(yong)戶(hu)工(gong)     作(zuo)地。