產(chan)品列(lie)表(biao) / products
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簡(jian)要描述:ICP光(guang)譜儀特點:1、射頻(pin)發生(sheng)器(qi)的高壓(ya)供(gong)電(dian)回(hui)路(lu),采(cai)用的電子技術,淘汰了(le)笨重的升壓(ya)變壓(ya)器(qi)和高頻(pin)阻流圈,采(cai)用功(gong)率(lv)閉環(huan)反(fan)饋(kui)技術,控(kong)制(zhi)精度(du)於0.1% 2、全(quan)自(zi)動點火 氣(qi)路(lu)智(zhi)能控(kong)制(zhi),實現軟(ruan)件點火,更(geng)方便3.安全(quan)冷卻水(shui)保護、氬(ya)氣(qi)保護、過壓(ya)、過流、滅(mie)弧保護更(geng)安全(quan)4.輸(shu)出功(gong)率(lv)自(zi)動匹配調諧(xie),功(gong)率(lv)參數(shu)軟(ruan)件程序設(she)定5.分(fen)光(guang)器(qi)內充(chong)氬氣(qi),使(shi)波長(chang)在(zai)180nm的硫(liu)和(he)189nm的Sn得到(dao)很靈(ling)敏的效(xiao)果
產品(pin)型(xing)號(hao):
廠(chang)商(shang)性(xing)質(zhi):生(sheng)產廠(chang)家(jia)
更(geng)新時間(jian):2025-10-27
訪 問(wen) 量:3505ICP光譜儀組(zu)成(cheng)及工作原理(li)
ICP光譜儀是(shi)多元(yuan)素順序(xu)測量的分(fen)析測試儀器(qi)。 該(gai)儀器(qi)由掃(sao)描分(fen)光(guang)器(qi)、射頻(pin)發生(sheng)器(qi)、試樣引入(ru)系統(tong)、光(guang)電轉(zhuan)換、控制(zhi)系統(tong)、數(shu)據(ju)處(chu)理系統(tong)、分(fen)析操作軟(ruan)件組(zu)成(cheng)。等離子(zi)體(ti)是(shi)在(zai)三(san)重(zhong)同(tong)心(xin)石(shi)英炬(ju)管中(zhong)產生(sheng)。炬管內(nei)分(fen)別(bie)以切向通(tong)入(ru)氬(ya)氣(qi),炬(ju)管上(shang)部繞(rao)有紫銅負載(zai)線圈<內通(tong)冷卻水(shui)>當高頻(pin)發生(sheng)器(qi)產生(sheng)的高頻(pin)電流(工作頻(pin)率(lv)40MHz功(gong)率(lv)1.2KW左右)通過線圈時,其(qi)周圍(wei)產(chan)生(sheng)交(jiao)變磁場(chang),使(shi)少量氬(ya)氣(qi)電(dian)離產(chan)生(sheng)電子(zi)和離子,在(zai)磁場(chang)作用下加(jia)速運動與(yu)其(qi)它(ta)中(zhong)性(xing)原(yuan)子碰(peng)撞,產(chan)生(sheng)更(geng)多的電子和離子,在(zai)炬(ju)管內(nei)形成(cheng)渦(wo)流,在(zai)電(dian)火花(hua)作用下形(xing)成(cheng)等離子(zi)炬(即(ji)等離子(zi)體(ti)),這種(zhong)等離子(zi)體(ti)溫度(du)可(ke)達10000K以上(shang)。待測水溶液經噴霧器(qi)形成(cheng)氣(qi)溶(rong)膠進(jin)入石英炬(ju)管中(zhong)心通(tong)道。原(yuan)子在(zai)受(shou)到(dao)外界(jie)能(neng)量的作用下電(dian)離(li),但處(chu)於激發態的原子十(shi)分(fen)不(bu)穩定,從(cong)較高(gao)能(neng)級躍遷到(dao)基(ji)態時,將(jiang)釋(shi)放出巨(ju)能量,這(zhe)種(zhong)能(neng)量是(shi)以壹(yi)定波(bo)長(chang)的電磁波(bo)的形式輻射出去。不(bu)同元素產(chan)生(sheng)不(bu)同的特征(zheng)光(guang)譜。這些(xie)特征(zheng)光(guang)譜通過透鏡射到(dao)分(fen)光(guang)器(qi)中(zhong)的光柵上(shang),計(ji)算通(tong)過控制(zhi)步進電(dian)機(ji)轉(zhuan)動光柵,傳動機(ji)構(gou)將(jiang)分(fen)光(guang)後的待測元素特征(zheng)譜線光(guang)強準確(que)定位(wei)於(yu)出口狹(xia)縫(feng)處(chu),光電倍(bei)增(zeng)管將(jiang)該(gai)譜線光(guang)強轉(zhuan)變為(wei)電流,再經電路處(chu)理和V/F轉(zhuan)換後,由(you)計(ji)算機(ji)進行數(shu)據(ju)處(chu)理,zui後由(you)打(da)印機(ji)打(da)出分(fen)析結果。
二(er)、ICP光譜儀技(ji)術指(zhi)標
1.射頻(pin)發生(sheng)器(qi)(RF)
(1) 電路(lu)類(lei)型(xing):自(zi)激振蕩(dang)電(dian)路(lu),全(quan)自(zi)動點火,所(suo)有(you)功(gong)能實(shi)現電腦軟(ruan)件控制(zhi)(點火、熄(xi)火、功(gong)率(lv)等參數(shu)設(she)置(zhi));實時功(gong)率(lv)控制(zhi);自(zi)動匹配調諧(xie);光室恒(heng)溫;
(2) 工作頻(pin)率(lv):40.68MHZ±0.05%
(3) 頻(pin)率(lv)穩定性(xing):<0.1%
(4) 輸(shu)出功(gong)率(lv):700-1600w
(5) 輸(shu)出功(gong)率(lv)穩定性(xing):≤0.3%
(6) 電磁場(chang)泄漏(lou)輻(fu)射強度:距(ju)機(ji)身300mm 電場(chang)強(qiang)度E:<2V/m
2.進樣裝(zhuang)置:
(1) 輸(shu)出工作線圈內徑(jing)25mm,3匝(za)
(2) 炬管:外徑(jing)20mm的石英炬(ju)管
(3) 同軸型(xing)噴(pen)霧(wu)器(qi)外徑(jing)6mm
(4) 雙(shuang)筒形(xing)霧室外徑(jing)35mm
(5) 氬氣(qi)流量計(ji)規(gui)格和載氣(qi)壓(ya)力表(biao)規(gui)格:
①、 等離子(zi)體(ti)流量計(ji)(100-1000)L/h ;(1.6-16L/min)
②、 輔助(zhu)氣(qi)流量計(ji)(6-60)L/h ;(0.1-1L/min)
③、 載氣(qi)流量計(ji)(6-60)L/h ;(0.1-1L/min)
④、 載氣(qi)穩(wen)壓(ya)閥(0-0.4MPa)
儀器(qi)內設(she)氬(ya)氣(qi)二(er)次(ci)穩壓(ya)閥(0.3MPa)
3.測光裝(zhuang)置:
(1) 光電(dian)倍增(zeng)管規(gui)格: R212UH
(2) 光電(dian)倍增(zeng)管負(fu)高壓(ya):200-1000V ,穩定性(xing)<0.05%
(3) 光電(dian)倍增(zeng)管電(dian)流測量範(fan)圍(wei):10-12 -10-4A
(4) 信號(hao)采(cai)集為(wei)V/F交(jiao)換(huan):1mV對應100Hz
4.分(fen)光(guang)器(qi):
(1) 光路(lu): Czerny-Turner
(2) 焦(jiao)距: 1000mm
(3) 光柵規(gui)格:離子刻蝕(shi)全(quan)息光柵,刻(ke)線密度(du)3600線/mm,
刻線面(mian)積: 80×110mm,線色(se)散(san)率(lv)倒數(shu):0.26nm
(4) 波長(chang)範圍:190-500nm
(5) 分(fen)辨(bian)率(lv): ≤0.008nm
(6) 掃(sao)描波長(chang)範(fan)圍3600線/mm 掃(sao)描波長(chang)範(fan)圍:190-500nm
(7) 步進電(dian)機(ji)驅動(dong)zui步距:0.0006nm
(8) 入射狹(xia)縫(feng):20µm 出射狹(xia)縫(feng):25µm
(9) 發射鏡規(gui)格:(78 × 105 × 16)mm
(10) 透鏡ф30,1:1成(cheng)像
?5.應用行業(ye)分(fen)類(lei)
1、金屬類(lei)
鋼鐵:包(bao)括(kuo)碳素鋼(gang)、鑄(zhu)鐵、合金鋼、高純(chun)鐵、鐵合金、矽鐵、錳(meng)鐵、釩 鐵、 鐵礦石,鉛的冶煉等。
2、有色(se)金屬分(fen)析:
純銅(tong),純鋁(lv)和合金中(zhong)的雜質元(yuan)素分(fen)析。
貴金屬的純度分(fen)析:Au、Ag、Pt、Pd、Ir、Rh、Os、Ru。
3、環(huan)境(jing)檢測類(lei)
水質(zhi)分(fen)析:礦泉水、自(zi)來水(shui)、河水(shui)、海水(shui)、汙水(shui)、廢水(shui)等。
食品分(fen)析:包括(kuo)食品、飲料等。
土壤成(cheng)份分(fen)析:生(sheng)物和(he)植物樣品的分(fen)析。
4、稀土材料和稀土永(yong)磁類(lei)
稀土元(yuan)素全(quan)分(fen)離(li),此儀(yi)器(qi)高分(fen)辨(bian)率(lv)非常適合稀土元(yuan)素的分(fen)析。
稀土永(yong)磁材料中(zhong)對釹鐵硼(peng)材料的配分(fen)和(he)成(cheng)份的分(fen)析。
5、地質(zhi)礦物的分(fen)析
精選(xuan)礦的分(fen)析、普(pu)查找(zhao)礦分(fen)析
6、食品醫(yi)藥分(fen)析
食品中(zhong)有益(yi)、有害(hai)元(yuan)素的分(fen)析、藥材中(zhong)的微量元(yuan)素分(fen)析
三(san)、整(zheng)機(ji)技術指(zhi)標
180-500nm 3600L/mm光柵
180-800nm 2400 L/mm光柵
2.測量精(jing)度(du)(重(zhong)復性(xing)):平均相對標準(zhun)偏差(cha)RSD≤1%
3.測量穩(wen)定性(xing):平均相對標準(zhun)偏差(cha)RSD≤2
4.檢出下限(xian):亞(ya)PPb級
四、安(an)裝(zhuang)條件
1、儀器(qi)正常工作條件:實驗(yan)室內(nei)清(qing)潔、幹燥(zao)、無灰(hui)塵(chen)、無振動(dong)。室溫保持(chi) 為(wei)22℃±3℃
2、房間(jian):15平米(mi)左(zuo)右為(wei)宜,配(pei)有標(biao)準溶液試劑(ji)櫃(gui),電腦桌(zhuo)、電(dian)腦椅(yi),空(kong)調1.5 —2匹。
3、電源:220V,22A,使用4平方的電線。
4、接地:為(wei)了安(an)全(quan)和(he)儀(yi)器(qi)的穩定,必須有(you)高頻(pin)接地,用300×300×3mm的紫銅 板埋於地下1.5米深(shen)處(chu),用寬(kuan)30×0.5mm的紫銅帶接到(dao)主機(ji)的機(ji)殼上(shang)。
5、排(pai)風:要求在(zai)主(zhu)機(ji)上方安裝(zhuang)排(pai)風筒,外接煙(yan)囪並用排(pai)風扇將(jiang)ICP燃燒(shao)後(hou)的廢 氣(qi)排(pai)到(dao)室外。
6、氬氣(qi):可(ke)使用普(pu)通氬(ya)氣(qi)99.99%即(ji)可
五(wu)、保修(xiu):
北(bei)京中(zhong)曄(ye)儀(yi)元科(ke)技(ji)有限(xian)將(jiang)提(ti)供(gong)12個月(yue)的保修(xiu)期(qi), 自(zi)簽字(zi)驗(yan)收(shou)之日(ri)起(qi)計(ji) 算,但(dan)不(bu)超(chao)過發貨之日(ri)起(qi)15個月(yue). 在(zai)保修(xiu)期(qi)期(qi)內(nei),北(bei)京中(zhong)曄(ye)儀(yi)元科(ke)技(ji)有限(xian)公 司免(mian)費(fei)維(wei)修(xiu),由(you)於非(fei)甲方人(ren)為(wei)因(yin)素造(zao)成(cheng)儀器(qi)故障(zhang)及(ji)損壞(huai),即(ji)由乙方免(mian)費(fei)負(fu)責(ze) 解(jie)決(jue)(消耗品(pin)除外);
六(liu)、ICP光譜儀售(shou)後(hou)服(fu)務(wu):
在(zai)收(shou)到(dao)用戶(hu)的要求維(wei)修(xiu)書(shu)面(mian)通(tong)知的3時內(nei),北(bei)京中(zhong)曄(ye)儀(yi)元科(ke)技(ji)有限(xian) 的技術人(ren)員(yuan)做(zuo)出響(xiang)應如(ru)果需(xu)要(yao)趕赴用戶(hu)工作現場(chang),技(ji)術人(ren)員(yuan)將(jiang)在(zai)收(shou)到(dao) 書面(mian)通(tong)知的2個工(gong)作日(ri)內到(dao)達用戶(hu)工作地。
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